Shanghai Leading Semiconductor Technology Development Co.,Ltd.

最終更新日: 2025-09-04

会社理念

研磨、精密研削用途における包括的なソリューションの提供

最終更新日：2025-09-01

最終更新日：2025-09-01

最終更新日：2025-09-01

2011年会社登録成立,

2019年国家ハイテク企業と評定された

2022年新しい場所に移転し、工場と事務の総面積は6500 m 2

2023年工場の面積が8200 m 2に拡大

2024年半導体研究開発センターの建設を開始し、初の炭化ケイ素自動研磨ラインを納入

2025年東京オフィス設立

最終更新日：2025-09-01