株式会社アイ・シイ・エスのセラミック溶射は、絶縁、離形、遮熱、耐摩耗などの機能を用途に合わせて設計し、プラズマ溶射を中心に材料と膜構成を最適化してご提供します。半導体装置やタービン周辺、産業機械の摺動部まで、多様な部品に機能を付与します。

【ラインアップと性能レンジ 機能から選べる代表膜種】
ホワイトアルミナ 絶縁、離形、化学的不活性 硬さHV900〜1100 最高使用温度1650℃ 膜厚0.01〜0.6mm
グレーアルミナ 摺動摩耗、離形 硬さHV900〜1000 最高使用温度1100℃ 膜厚0.01〜0.6mm
アルミナチタニア 摺動摩耗、酸アルカリ耐性、靭性 硬さHV約850 最高使用温度540℃ 膜厚0.01〜0.6mm
酸化クロム 耐摩耗、アブレージョン、高靭性 硬さHV1000〜1500 最高使用温度540℃ 膜厚0.01〜1.0mm
ジルコニア系YSZ 低熱伝導、熱衝撃耐性 最高使用温度1200〜1350℃ 膜厚0.01〜2.5mm
イットリア 絶縁、耐プラズマ、離形 最高使用温度1650℃ 膜厚0.01〜0.5mm
各膜種は用途に応じて膜厚上限の拡張もご相談いただけます。

【用途別の狙い 絶縁・離形・遮熱をコアに設計】
半導体製造装置や焼結用トレーにはホワイトアルミナやイットリアで絶縁・離形を付与し、パーティクルや凝着の発生を抑制します。発電用タービンやエンジン周辺はYSZの熱バリアで熱負荷と熱衝撃を緩和。一般産業機械の摺動部やロールにはグレーアルミナ、酸化クロムでアブレージョン耐性を確保します。

【プロセスとサイズ能力 材料自由度を長尺ワークにも】
セラミックス中心のプラズマ溶射を基軸に、必要に応じてHVOFやフレームを組み合わせます。最大処理サイズは直径900×長さ1500mmまで対応。ロールや長尺シャフトなど現場のサイズ制約に合わせて段取りします。

【品質保証 膜厚・密着・硬さ・表面を工程で数値化】
膜厚は蛍光X線とカロテストで二重測定。密着はスクラッチ試験やアムスラー型万能材料試験機で評価。硬さは超微小押込みやマイクロ、ロックウェルを併用し、SEM・EDS、レーザー顕微鏡、表面粗さ計で組織と表面性状を定量化します。測定指標と製品IDを紐付け、量産でも再現性を担保します。

【導入フロー 要件から逆算する材料選定】
耐熱温度、雰囲気、絶縁や離形の必要性、目標膜厚などの要件を定義し、ホワイト/グレーアルミナ、アルミナチタニア、酸化クロム、YSZ、イットリアから最適な膜種を選定します。ご要望に応じた材料選定を前提に、プロセスと検査計画をセットで提示します。

【適用イメージ】
・半導体装置部材 絶縁・離形 重視 アルミナ系/イットリア
・燃焼器/タービン周辺 遮熱 重視 YSZ
・摺動ロール/治具 アブレージョン対策 グレーアルミナ/酸化クロム
・特殊用途 高温雰囲気下の耐食・耐酸化 Ni合金層と組み合わせた二層設計

【まとめ】
絶縁、離形、遮熱、耐摩耗といった機能を起点に、セラミック溶射の材料と膜構造を最適化することで、設備の稼働率と歩留まりを底上げできます。図面や使用条件をご共有ください。用途に最適なセラミック膜種とプロセス、検査計画を一体でご提案します。

【お問合せ先】
株式会社アイ・シイ・エス
〒322-0603　栃木県栃木市西方町本郷623
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