株式会社アイ・シイ・エスの溶射は、用途と環境に合わせて材料と方式を組み合わせ、耐摩耗性 耐食性 耐熱性 遮熱 絶縁性などの機能を狙って付与します。プラズマ溶射 HVOF溶射 フレーム溶射を用い、産業機械やタービン 航空宇宙 半導体装置まで幅広く対応します。

【機能別ソリューションと代表材料】
耐摩耗はHVOFでWC系やCr3C2系を提案 緻密で高密着の層を形成し摺動部の寿命を延長します
耐食 耐酸化はNi合金系やNiCrAlY HVOFやプラズマを使い分けます
耐熱 遮熱はYSZやジルコニア系 プラズマで熱バリアを設計します
絶縁 離形はアルミナ系や酸化クロム プラズマで膜質を制御します
上記以外の金属 合金 セラミック サーメットにも柔軟に対応します

【産業別の適用イメージと狙い】
発電用タービンや燃焼器部品では耐熱や遮熱を主眼にYSZやNi合金系を選定 熱負荷と酸化を抑制
航空機や一般産業機械の摺動部 ロールにはWC系やCr3C2系で摩耗を抑制 メンテ周期を延長
半導体製造装置の部材にはアルミナ系で絶縁や凝着防止 パーティクル付着を低減
いずれもプロセスはHVOF プラズマ フレームから最適化し 要求膜厚と密着を満たす条件で実装します

【プロセスの特徴と選び方】
HVOFは約3000℃の炎温と約800m毎秒の粒子速度で低酸化 高密着 高緻密 層を形成 摺動や耐食用途に有効
プラズマは約16000℃の高温で材料自由度が高く セラミックスの実装や遮熱に適します
フレームやアークは広範囲や厚膜の肉盛り 現地補修にも活用可能です

【品質保証と検査エコシステム】
膜厚は蛍光X線やカロテストで管理 密着はスクラッチや引張で確認 硬さは微小押込みやビッカース ロックウェルを併用します。ミクロ組織や元素はSEM EDSで解析し、レーザー顕微鏡や表面粗さ計で表面性状を数値化。目的機能に直結する指標を工程内で可視化し、量産条件でも再現性を確保します。

【一貫対応が生む導入メリット】
弊社はHVOF プラズマ フレームの装置群とコーティングサイズ範囲を備え、要件に合わせたプロセス選択が可能。熱処理やろう付けなど周辺特殊工程と組み合わせることで、前後工程込みの短納期化と性能安定を両立します。

【まとめ】
耐摩耗 耐食 耐熱 遮熱 絶縁といった機能を起点に材料と溶射方式を設計し、検査で確証することが結果を左右します。図面や使用条件をご提示ください。HVOF プラズマ フレームの最適構成で、稼働率と歩留まりの向上に直結するコーティングをご提案します。

【お問合せ先】
株式会社アイ・シイ・エス
〒322-0603　栃木県栃木市西方町本郷623
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