株式会社アイ・シイ・エスの溶射は、用途と環境条件から逆算し、プラズマ溶射、HVOF溶射、フレーム溶射を最適配合でご提案します。基材や温度域、雰囲気、膜厚レンジまで踏まえた工程設計で、狙う機能を確実に実装。ご要望に応じたプロセス選定と品質管理を一体で提供します。

【プロセス比較で見極める適用領域】
HVOFは約3000℃の炎温と約800m毎秒の粒子速度で高緻密かつ高密着の皮膜形成に適し、耐摩耗や耐食分野で威力を発揮。プラズマは約16000℃の高温と幅広い材料適合性でセラミックス実装に強み。フレームは広範囲と厚膜形成に有利で、現場の修復や肉盛りにも有効です。

【要件別の選定ロジックと提案フロー】
まず使用環境を定義 温度域 雰囲気 摺動 目標膜厚 その上で工程を設計
・耐摩耗 摺動部はHVOF 代表例WC系やCr3C2系で緻密層を形成
・耐食 耐酸化はHVOF NiCrAlYやNi系合金で長期安定を狙う
・絶縁 離形はプラズマ溶射 アルミナやアルミナチタニアで機能付与
・遮熱はプラズマ溶射 YSZ系で熱流束を制御
・厚膜 肉盛りや現地補修はフレーム溶射 0.1〜5mmの膜厚レンジに対応
膜種とプロセスを組み合わせ、納入前に膜厚 密着 組織を検証します。

【工程保証と量産実装の信頼性】
弊社はHVOF プラズマ フレームの各設備を保有し、工程内で膜厚 膜質 密着を可視化。蛍光X線膜厚計、スクラッチ試験機、超微小押込み、摩擦摩耗試験、SEM EDS、レーザー顕微鏡などでトレーサビリティを確立。さらに航空宇宙向けのHVOF フレーム プラズマに関する社内認定実績を背景に、量産条件でも安定した再現性を担保します。


【お問合せ先】
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