日本電鍍工業㈱では、自社内にてイオンプレーティング（IP）処理を行なっておりました。
残念ながら、2020年を前にして社内でのIP処理事業を休止となりましたが、依然としてご相談をいただくことがあります。
その中で、イオンプレーティングやPVD処理についてご質問をいただくこともあるので、簡単に説明させていただきます。

まず、表面処理を大きく分類すると、
①：表面改質（当社処理で、アルマイトやチタンの陽極酸化処理など）
②：デポジション（当社処理で、めっきや電着塗装など）
に分けられます。
素材自体の表面を変化させる①の中には、「熱処理」なども含まれます。
②の中に、「めっき」と呼ばれるものは全て含まれるのですが、IPもこちらの部類に含まれて、
半製品の表面上に何かを付着させていくイメージです。

②をさらに分類すると、
②―１：湿式めっき（ウェットプロセス）
②―２：乾式めっき（ドライプロセス）
に分けられます。
液体中に品物を浸漬させる「電気めっき」などは湿式めっきに分類されます。
真空中や大気下など雰囲気で液体を使わず表面に金属等を積層する方法は、乾式めっきに分類されます。
IPは真空中にて処理をするため、②―２（乾式めっき）となります。

これをさらに分類すると、
②―２―A：物理的蒸着法（PVD）
②―２―Ｂ：化学的蒸着法（CVD）
に分けることができます。
「膜として積層させたい材料が固体（PVD）か気体（CVD）か？」という分け方です。
真空めっきで使われる材料として多いのがチタン【Ti】なのですが、これには
Ａ：金属（固体）としてのチタン　→　PVD
Ｂ：気体としてのチタン　→　CVD
があり、それぞれの材料種別の違いにより分類されています。
当社では、チタン金属をルツボで溶かしながらイオン化させる方式のIP処理だったため
PVDに分類されていました。

英字のアルファベットだらけで、小難しい内容ではありますが、ご参考になればと思います。
IP処理の代替案もありますので、ご相談を含めぜひ当社へお問い合わせ下さい。

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