弱電・家電
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【成膜技術と薄膜加工技術を需要が高まるサブマウントに応用】
薄膜磁気ヘッド(HDD・FDD)や光学プリズム部品の製造で培った成膜・薄膜加工技術を応用発展させ、セラミック基板などの母材に合わせた薄膜電極・抵抗膜・はんだ膜などを高精度な微細回路パターンで形成することができます。
また、立体面へのパターニングや厚膜Cuめっきも対応可能です。
お客様は日本に限らず、アジア・欧米など世界各国でお使いいただいております。
●標準基板材料(熱伝導率 W/m・K)
AlN (170~230)
AlN/Cu(~270)
SiC (~370)
●アプリケーション
レーザーダイオード(LD)実装基板
発光ダイオード(LED)実装基板
フォトダイオード(PD)実装基板
●レーザー市場用途
光ストレージ(BD・DVD・CD)
光通信(FTTx・データセンター・モバイル基地局)
民生産業用(センサー・LiDAR・レーザー加工・医療)
照明(プロジェクター・自動車ヘッドライト) など
【派生品】
検体プレート
ガルバノスキャナーミラー
会社名 |
シチズンファインデバイス 株式会社 (しちずんふぁいんでばいす) |
エミダス会員番号 | 101834 |
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国 | 日本 | 住所 |
日本 長野県 北佐久郡御代田町 |
電話番号 | 0267-31-1133 | FAX番号 | |
資本金 | 175,312 万円 | 年間売上高 | |
社員数 | 940人 | 担当者 | 小林野乃華 |
産業分類 | OA機器 / 電子部品 / 医療機器 | ||
主要取引先 |
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