半導体
生産設備
クニマイトの特長は、高温に強い皮膜で、50μmの膜厚を500℃で3時間加熱
しても表面にクラックが発生しない皮膜であることです。
また、500℃以上の高温に加熱しても皮膜にクラックが発生しないため、
高温になる部品にも使用することが可能です。
さらに半導体製造装置へのク二マイト加工において、クニマイトはパーティクル量の削減に効果を発揮します。
半導体製造装置は通常腐食系ガスを使用しているので、プラズマからの熱影響でクラックが発生し、そこから腐食が進行することにより、パーティクルが発生します。
クニマイトは熱によるクラックの発生がないため、プラズマエッチング装置内で長時間使用してもパーティクルは発生しません。
会社名 |
中国電化工業 株式会社 (ちゅうごくでんかこうぎょう) |
エミダス会員番号 | 100187 |
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国 | 日本 | 住所 |
日本 山口県 防府市 |
電話番号 | 0835-22-2810 | FAX番号 | 0835-23-2971 |
資本金 | 2,580 万円 | 年間売上高 | |
社員数 | 19人 | 担当者 | 東 幸緒 |
産業分類 | 産業用機械 |
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